Primo UD-RIE?是糖果派对网站公司基于齐全自主的知识产权开发的12英寸高端电容耦合等离子体（CCP）刻蚀机。针对存储器件造作中最关键的深邃宽比介质刻蚀工艺， Primo UD-RIE? 建设了具备多级脉冲职能的超低频大功率射频系统，有效提高离子能量和准直性 ；强化了上电极冷却和加热设计，并选取耐高击穿电压的静电吸盘满足大射频功率下的工艺需要 ；可实现实时温度切换和分区冷却的下电极在扩大工艺窗口的同时提升晶圆边缘刻蚀阐发 ； 优化的腔体涂层适配新型侵蚀性刻蚀气体，有效扩大工艺窗口。 Primo UD-RIE? 还建设了糖果派对网站公司初创的自动边缘阻抗调节系统，突破了传统的晶圆边缘等离子体壳层的调节方式，极大地提升了设备的量产机能。Primo UD-RIE?可配置最多六个单反映台刻蚀反映腔和两个去胶反映腔，为深邃宽比刻蚀提供矫捷的解决规划。 Primo UD-RIE? 在存储器件造作中的深邃宽比深孔及沟槽刻蚀上阐发优异，已经在先进出产线实现大规模量产。
用于存储器件深邃宽比刻蚀工艺的电容耦合等离子体刻蚀机
具备多级脉冲职能的超低频大功率射频系统
强化设计的上电极加热和冷却
耐高击穿电压的静电吸盘
可实时温度切换和带分区冷却职能的下电极
业内初创的自动边缘阻抗调节系统
可选的集成去胶反映腔
高离子能量及准直性，提高孔内刻蚀速度及刻蚀描摹节造
工艺调节伎俩多样，扩大深邃宽比刻蚀工艺窗口
优异的深邃宽比刻蚀沉复性和不变性
应对特殊工艺气体的防侵蚀工艺组件
