Primo AD-RIE ? 是糖果派对网站第二代電介質刻蝕產品。 基於已被認可的Primo D-RIE ? 刻蝕設備，Primo AD-RIE應用了拥有自主知識產權的新設計，配備了可切換雙低頻射頻源，優化了上電極氣流分佈以及下電極溫控系統。 為了優化生產效能，Primo AD-RIE系統同樣能够靈活地裝置多達三個雙反應臺反應腔（即六個反應臺）。 Primo AD-RIE具備可能滿足新一代晶片器件製造需要的先進效力，現時已被廣泛應用於40到14納米後段造程。
此表，糖果派对网站基於Primo AD-RIE開發了子系列產品Primo AD-RIE-e和Primo AD-RIE-cr。 Primo AD-RIE-e配備了自主研發的四區動態靜電吸盤，每一造程步驟可獨立進行控溫，以達到更高的刻蝕均勻度和刻蝕選擇比，現時已應用於5納米前段和中段的掩膜層刻蝕的開發及量產。 Primo AD-RIE-cr配備了擁有自主知識產權塗層科技的抗腐蝕反應腔，可應對電介質資料、金屬及金屬氧化物資料複雜結構的刻蝕要求。